當前位置:首頁 > 新聞中心
3-11
自動勻膠顯影機半導體制造過程中關鍵的設備之一,廣泛應用于光刻工藝中。其主要功能是在半導體晶圓表面均勻地涂布光刻膠,并進行顯影處理,確保形成準確的圖案結構,從而為后續(xù)的刻蝕、離子注入等工藝打下基礎。一、自動勻膠顯影機的關鍵技術1、光刻膠涂布技術它采用高精度的涂布技術,以確保光刻膠在晶圓表面上均勻地分布。旋涂技術是最常見的涂布方法,它能夠保證涂布的光刻膠層非常均勻,避免出現(xiàn)氣泡、顆?;蚝穸炔痪膯栴}。隨著半導體技術的不斷發(fā)展,對光刻膠涂布的要求也越來越高,需要更為精細和精確的控制...
2-17
實驗室光刻機是半導體制造中的重要設備,主要用于通過光學技術將微小的圖案轉印到硅片上,從而形成集成電路的結構。為了確保其能夠高效、精準地完成圖案轉移,實驗室環(huán)境的要求極為嚴格。以下是實驗室光刻機使用環(huán)境的主要要求:1、溫度控制溫度對其性能和精度影響深遠。光刻過程中,設備的各個部件、光學系統(tǒng)、硅片以及光刻膠等材料都對溫度變化非常敏感。即便是微小的溫度波動,也可能導致圖案偏移或圖案失真。為了達到這種精確的溫控,實驗室需要配備先進的溫度控制系統(tǒng),并采用高效的空調(diào)設備,保證溫度的穩(wěn)定性...
10-25
【化工儀器網(wǎng)展會報道】2024年10月23日至25日,第十四屆中國國際納米技術博覽會在蘇州舉辦。此次盛會重點聚焦納米新材料、微納制造、第三代半導體、納米壓印、納米大健康、能源與清潔技術、納米生物技術等產(chǎn)業(yè)領域,再次吸引了全球納米技術領域的頂尖專家、學者和企業(yè)代表齊聚一堂,共同探討納米科技的最新進展和未來發(fā)展趨勢。江蘇雷博科學儀器有限公司(簡稱“雷博科儀”)作為參展企業(yè)之一,攜其自主研發(fā)的HP100-SA充氮型程控烤膠機和AC200-SE標準型程控伺服勻膠機亮相展會。雷博科儀展...
10-9
控溫勻膠機是一種用于混合和加熱膠水的設備,能夠在加熱的同時進行旋轉操作,這有助于改善膠體的流動性,提高勻膠效果,常用于紡織、印染、服裝、鞋材等行業(yè)。在使用過程中,控溫勻膠機可能會出現(xiàn)一些常見問題,以下是一些常見問題及解決方法:1、溫度控制不準確:溫度控制不準確會影響膠水的質量和生產(chǎn)效率??赡艿脑虬囟葌鞲衅鞴收稀⒖刂破鞴收?、加熱元件損壞等。解決方法可以是更換溫度傳感器、修復或更換控制器、更換加熱元件等。2、膠水不均勻:如果在工作過程中膠水不均勻,可能是因為攪拌器轉速不均勻...
9-18
實驗室熱封儀是一種用于對樣品進行熱封包裝的設備,廣泛應用于生物、化學、醫(yī)學等領域。正確操作可以確保樣品的安全性和完整性,避免污染和泄漏。以下是正確操作實驗室熱封儀進行樣品封裝的步驟:1、準備工作:在使用之前,需要先做好準備工作。首先,確保已經(jīng)接通電源并預熱至設定溫度。然后,準備好需要封裝的樣品和相應的包裝材料,如塑料袋、鋁箔袋等。根據(jù)樣品的大小和形狀,選擇合適的包裝袋尺寸和材質。2、放置樣品:將待封裝的樣品放入預先準備好的包裝袋中,確保樣品與袋子之間沒有過多的空氣。對于易碎或...
9-3
涂膜機的自動化控制技術是提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質量的關鍵。通過集成先進的自動化系統(tǒng),它能夠在最少的人為干預下完成高質量的涂層作業(yè)。本文將探討如何通過自動化技術實現(xiàn)其高效運行。首先,要實現(xiàn)涂膜機的自動化控制,需要引入精確的傳感器技術。這些傳感器能夠實時監(jiān)測涂層的厚度、均勻性以及固化程度等關鍵參數(shù)。例如,利用激光或超聲波傳感器可以非接觸式地測量涂層的厚度,確保每一層的涂料都能達到預設的標準。其次,自動化控制系統(tǒng)的核心在于其程序邏輯控制器(PLC)。PLC是一種專門用于工業(yè)控制的計算機...
9-2
為進一步滿足客戶的實驗工藝需求,雷博科儀特推出新款實驗型等離子清洗機:PT13M-BE、PT13M-SE、PT13M-GE、PT40K-BE、PT40K-SE儀器介紹等離子清洗機(plasmacleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子清洗可以除去器材表面細小的油膜、銹跡或其他油類污物,而且在等離子清洗后,不會在器材表面留下殘余物。工作原理等離子清洗機是一種利用等離子體技術對材料表面進行處...
歡迎您關注我們的微信公眾號了解更多信息